Просмотр новости
Найдите то, что Вас интересует
Спутники
РН
SpaceX
Роскосмос
NASA
Создан опытный образец самого передового в России литографа для производства чипов
Дата публикации: 12-08-2026 14:15:00
В России создана установка проекционного переноса
изображений для производства интегральных схем с проектными нормами 130 нм.
Оборудование разработал «Зеленоградский нанотехнологический центр» (ЗНТЦ) в
кооперации с белорусским «Планар».
Основное содержимое страницы с новостью.
12 Августа 2026 17:15 12 Авг 2026 17:15 |
В России создана установка проекционного переноса изображений для производства интегральных схем с проектными нормами 130 нм. Оборудование разработал «Зеленоградский нанотехнологический центр» (ЗНТЦ) в кооперации с белорусским «Планар».
Установка литографииКак выяснил CNews, АО «Зеленоградский нанотехнологический центр» (ЗНТЦ) завершил третий этап опытно-конструкторских работ по созданию фотолитографической установки с проектными нормами 130 нм. Акт сдачи-приемки этапа подписан 7 августа 2026 г.
Оборудование предназначено для проекционного переноса изображения топологического рисунка интегральных схем на полупроводниковые пластины диаметром до 200 мм и мультипликации его на пластине при изготовлении сверхбольших интегральных схем (СБИС) с проектной топологической нормой 130 нм.
В рамках работ изготовлены два опытных образца эксимерного лазера с длиной волны 193 нм. Также изготовлены фотошаблоны, тестовые структуры, стенд для измерения и контроля фотолитографических и аберрационных характеристик объективов на рабочих длинах волн, отработаны базовые технологические процессы.
Работы сданы с опозданием. По графику третий этап ЗНТЦ должен был сдать в марте 2026 г., но фактически сдал в августе. На установке отработаны базовые технологические процессы.
Замена ASMLОтечественные и белорусские аналоги такого оборудования отсутствуют. Среди иностранных аналогов в документации перечислены Nikon, CANON и ASML. Однако российская установка имеет «отличительные особенности, ввиду достижения необходимого разрешения путем применения оборудования, в том числе источника излучения собственной разработки, использования отечественных материалов», следует из акта.
В России создан литограф на 130 нм
Ключевая особенность разработки — использование в качестве источника излучения эксимерных лазеров с длиной волны 193 нм. Именно такие источники излучения применяются в мировой практике для DUV-литографии при производстве чипов с нормами 130 нм и меньше.
Серийные поставки«Пока создан только опытный образец степпера, — рассказал CNews глава ЗНТЦ Анатолий Ковалев. — Предстоит проведение предварительных испытаний, постановка базового технологического процесса».
Он сообщил, что в 2027 г. компания планирует контрактоваться с потребителями в рамках серийных поставок.
Кто все-таки разработчик?Судя по документам, разработкой установки занимался белорусский ОАО «Планар» (149,6 млн руб.). Помимо самой установки, компания отвечала за изготовление механических узлов (195 млн руб.), деталей и наладку опытного образца (свыше 100 млн руб.). Лазеры разработала компания «ЛАССАРД» за 500 млн руб.
Оплата «Планар» и «ЛАССАРД» составили чуть более 1 млрд руб.
По словам Ковалева, ЗНТЦ делает в проекте разработку установки в целом, конструктив стендов испытательных и технологических, расчеты объективов, а также моделирование и разработку техпроцесса.
Стоимость и структура затратНа всю разработку установки Минпромторг выделил 5,7 млрд руб. Стоимость третьего этапа ОКР составила более 2,46 млрд рублей.
Помимо оплаты «Планару» и «ЛАССАРД» 1 млрд руб., на материалы и комплектующие было потрачено 912,9 млн руб. Оплата труда составила 95,1 млн руб.
Стоимость самой установки оценена в 542,2 млн руб., лазеров — по 49 и 46 млн руб.
Этап для российской микроэлектроники«Создание
опытного образца отечественного фотолитографа с проектной нормой 130 нм —
важный этап для российской микроэлектроники, рассказал CNews Александр
Михайлов,
руководитель проектов практики «Промышленность и технологии» Strategy Partners.
— Это доказывает наличие собственных
инженерных компетенций по созданию такого оборудования и открывает путь к
развитию линейки с меньшими нормами (90 нм, 65 нм)».
В то же время от опытного образца до промышленной эксплуатации предстоит пройти еще значительный путь: подтвердить технологические и надежностные характеристики установки в реальной эксплуатации, проверить ее совместимость с действующими технологическими линиями, предупреждает Михайлов. «На первых этапах, вероятно, речь будет идти об ограниченной серии (несколько установок), которую по мере отработки технологии и появления устойчивого спроса можно будет масштабировать», отметил он.
Для масштабирования может потребоваться комплексная господдержка как стороне предложения, так и стороне спроса: льготное финансирование и субсидирование затрат на запуск серийного производства, долгосрочное обеспечение спроса со стороны российских предприятий (в том числе, фиксация объемов поставок на уровне документов планирования развития отрасли), поддержка (субсидирование) закупки и внедрения оборудования, предупреждает Михайлов.
Для промышленности нормативы 130 нм на 200-миллиметровых кремниевых пластинах — это основной рабочий базис, говорит руководитель проектов холдинга SNDGLOBAL Лапотко Константин. Именно этот класс оборудования закрывает ключевые потребности автомобильной электроники, энергетики, промышленных контроллеров, связи и специальных систем».
Реальная емкость отечественного спроса привязана к действующим и проектируемым заводам, работающим с 200-миллиметровыми пластинами (включая площадки «Микрона», «НМ-Теха», предприятий группы «Элемент» и профильных НИИ). Общий парк зарубежных установок аналогичного класса, закупленных ранее, составляет в стране порядка 25-40 единиц, отметил Лапотко.
По его словам, с учетом их износа и планов по расширению линий, совокупная потребность российской микроэлектроники можно оценить где-то в 15-25 установок на горизонте до 2030-2032 гг.
Из этого вытекает и характер будущего производства: речь идет о штучном, мелкосерийном выпуске высочайшей точности.
Чем известен «ЗНТЦ»АО «Зеленоградский нанотехнологический центр» — российский разработчик и производитель микроэлектроники и оборудования для ее производства.
Как ранее сообщал CNews, ЗНТЦ уже создал и начал серийное производство фотолитографа с разрешением 350 нм, который был передан компании «Отраслевые решения» (входит в ГК «Элемент»). ЗНТЦ также разработал установку электронно-лучевой литографии с проектными нормами 150 нм.
На форуме «Микроэлектроника 2025» генеральный директор ЗНТЦ Анатолий Ковалев заявлял, что создан серьезный задел, который позволяет перейти к разработке полностью локализованных установок с нормами 90 нм.
Схожие новости
Классификация: Наука. Схожих патентов: 0. Схожих новостей: 10. Тональность: 0. Информативность: 9.84. Источник: www.cnews.ru.