Производство на уровне пластин подразумевает создание гораздо более мелких компонентов и разработку крошечного, но более эффективного карбидокремниевого транзистора. Переход на уровень пластин необходим для практического применения, поскольку для изготовления интегральных схем требуется большое количество очень маленьких транзисторов. Команда применила тот же процесс изготовления полевых транзисторов с управляющим p-n-переходом, который они разработали на уровне чипа, непосредственно...
Сообщение Производство высокотемпературных транзисторов успешно доведено до уровня пластин появились сначала на Время электроники.
Несмотря на то, что карбид кремния — SiC — долгое время считался ключом к разработке электроники, пригодной для использования в экстремальных условиях, эта область исследований какое-то время оставалась в стадии разработки. Недавно группе исследователей из Киотского университета, специализирующихся на полевых транзисторах с изолированным затвором, или JFET, удалось разработать новую структуру карбидокремниевого транзистора, способного работать при температуре 600 °C. Следующей целью исследователей было масштабирование до уровня производства пластин, и теперь они этого добились.
Производство на уровне пластин подразумевает создание гораздо более мелких компонентов и разработку крошечного, но более эффективного карбидокремниевого транзистора. Переход на уровень пластин необходим для практического применения, поскольку для изготовления интегральных схем требуется большое количество очень маленьких транзисторов.
Команда применила тот же процесс изготовления полевых транзисторов с управляющим p-n-переходом, который они разработали на уровне чипа, непосредственно на уровне пластины, с учетом требований технологичности на заводе массового производства в соответствии с отраслевыми стандартами. Этот процесс был реализован без особых проблем.
В результате был получен карбидокремниевый транзистор, изготовленный на 6-дюймовой пластине, который продемонстрировал высокую однородность: стандартное отклонение порогового напряжения в центральной части пластины составило менее 0,07 вольта. Это важное техническое достижение, позволяющее производить интегральные схемы.
Полевой транзистор, изготовленный на 6-дюймовой эпитаксиальной пластине из карбида кремния. Источник; KyotoU / Мицуаки Канеко Это исследование — важный шаг на пути к разработке технологии интегральных схем, пригодных для использования в экстремальных условиях. Сочетание перехода к производству на уровне пластины и недавних исследований команды расширяет спектр применения полупроводников. Оно может открыть доступ к областям применения электронных схем, которые до сих пор были недоступны, например к датчикам реактивных двигателей, разработке геотермальных ресурсов и даже исследованию Венеры.
| # | Наименование новости | Тональность | Информативность | Дата публикации |
|---|---|---|---|---|
| 1 | В России создали вакуумные транзисторы для космоса — они выдерживают ... | 0 | 4.66 | 05-10-2026 |
| 2 | В России создали вакуумные транзисторы для космоса — они выдерживают ... | 0 | 4.44 | 06-10-2026 |
| 3 | В России создали вакуумные транзисторы для космоса — они выдерживают радиацию и высокие температуры - новости электроники | 0 | 6.2 | 05-10-2026 |
| 4 | ВАККУМНЫЕ ТРАНЗИСТОРЫ ДЛЯ КОСМОСА: ПРОРЫВ В МИКРОЭЛЕКТРОНИКЕ 🔬 Ученые Новосибирского ... | 0 | 5.98 | 05-10-2026 |
| 5 | Проекты, предвосхитившие свое время | 0 | 11.68 | 03-10-2026 |
| 6 | В России построят три новых микроэлектронных фабрики. Одну — для выпуска чипов 14 нм | 0 | 9.93 | 04-10-2026 |
| 7 | В России построят три новых микроэлектронных фабрики. Одну — для выпуска чипов 14 нм | 0 | 9.93 | 04-10-2026 |
| 8 | В России построят три новых микроэлектронных фабрики. Одну — для выпуска чипов 14 нм | 0 | 9.93 | 04-10-2026 |
| 9 | С начала года мировые продажи полупроводников превысили 1 трлн. долларов | 0 | 12.76 | 05-10-2026 |
| 10 | ЦТС отгрузил 50 тыс. российских плат для техники «Катюша» | 0 | 8.82 | 13-10-2026 |