Создан опытный образец самого передового в России литографа для производства чипов

Дата публикации: 12-08-2026 14:15:00

В России создана установка проекционного переноса
изображений для производства интегральных схем с проектными нормами 130 нм.
Оборудование разработал «Зеленоградский нанотехнологический центр» (ЗНТЦ) в
кооперации с белорусским «Планар».

Основное содержимое страницы с новостью.

Создан опытный образец самого передового в России литографа для производства чипов

В России создана установка проекционного переноса изображений для производства интегральных схем с проектными нормами 130 нм. Оборудование разработал «Зеленоградский нанотехнологический центр» (ЗНТЦ) в кооперации с белорусским «Планар».

Установка литографии

Как выяснил CNews, АО «Зеленоградский нанотехнологический центр» (ЗНТЦ) завершил третий этап опытно-конструкторских работ по созданию фотолитографической установки с проектными нормами 130 нм. Акт сдачи-приемки этапа подписан 7 августа 2026 г.

Оборудование предназначено для проекционного переноса изображения топологического рисунка интегральных схем на полупроводниковые пластины диаметром до 200 мм и мультипликации его на пластине при изготовлении сверхбольших интегральных схем (СБИС) с проектной топологической нормой 130 нм.

В рамках работ изготовлены два опытных образца эксимерного лазера с длиной волны 193 нм. Также изготовлены фотошаблоны, тестовые структуры, стенд для измерения и контроля фотолитографических и аберрационных характеристик объективов на рабочих длинах волн, отработаны базовые технологические процессы.

Работы сданы с опозданием. По графику третий этап ЗНТЦ должен был сдать в марте 2026 г., но фактически сдал в августе. На установке отработаны базовые технологические процессы.

Замена ASML

Отечественные и белорусские аналоги такого оборудования отсутствуют. Среди иностранных аналогов в документации перечислены Nikon, CANON и ASML. Однако российская установка имеет «отличительные особенности, ввиду достижения необходимого разрешения путем применения оборудования, в том числе источника излучения собственной разработки, использования отечественных материалов», следует из акта.

Ключевая особенность разработки — использование в качестве источника излучения эксимерных лазеров с длиной волны 193 нм. Именно такие источники излучения применяются в мировой практике для DUV-литографии при производстве чипов с нормами 130 нм и меньше.

Серийные поставки

«Пока создан только опытный образец степпера, — рассказал CNews глава ЗНТЦ Анатолий Ковалев. — Предстоит проведение предварительных испытаний, постановка базового технологического процесса».

Он сообщил, что в 2027 г. компания планирует контрактоваться с потребителями в рамках серийных поставок.

Кто все-таки разработчик?

Судя по документам, разработкой установки занимался белорусский ОАО «Планар» (149,6 млн руб.). Помимо самой установки, компания отвечала за изготовление механических узлов (195 млн руб.), деталей и наладку опытного образца (свыше 100 млн руб.). Лазеры разработала компания «ЛАССАРД» за 500 млн руб.

Оплата «Планар» и «ЛАССАРД» составили чуть более 1 млрд руб.

По словам Ковалева, ЗНТЦ делает в проекте разработку установки в целом, конструктив стендов испытательных и технологических, расчеты объективов, а также моделирование и разработку техпроцесса.

Стоимость и структура затрат

На всю разработку установки Минпромторг выделил 5,7 млрд руб. Стоимость третьего этапа ОКР составила более 2,46 млрд рублей.

Помимо оплаты «Планару» и «ЛАССАРД» 1 млрд руб., на материалы и комплектующие было потрачено 912,9 млн руб. Оплата труда составила 95,1 млн руб.

Стоимость самой установки оценена в 542,2 млн руб., лазеров — по 49 и 46 млн руб.

Этап для российской микроэлектроники

«Создание опытного образца отечественного фотолитографа с проектной нормой 130 нм — важный этап для российской микроэлектроники, рассказал CNews Александр Михайлов, руководитель проектов практики «Промышленность и технологии» Strategy Partners. — Это доказывает наличие собственных инженерных компетенций по созданию такого оборудования и открывает путь к развитию линейки с меньшими нормами (90 нм, 65 нм)».

В то же время от опытного образца до промышленной эксплуатации предстоит пройти еще значительный путь: подтвердить технологические и надежностные характеристики установки в реальной эксплуатации, проверить ее совместимость с действующими технологическими линиями, предупреждает Михайлов. «На первых этапах, вероятно, речь будет идти об ограниченной серии (несколько установок), которую по мере отработки технологии и появления устойчивого спроса можно будет масштабировать», отметил он.

Для масштабирования может потребоваться комплексная господдержка как стороне предложения, так и стороне спроса: льготное финансирование и субсидирование затрат на запуск серийного производства, долгосрочное обеспечение спроса со стороны российских предприятий (в том числе, фиксация объемов поставок на уровне документов планирования развития отрасли), поддержка (субсидирование) закупки и внедрения оборудования, предупреждает Михайлов.

Максим Радюков, ИТ-директор «Циана»: Мы создали единый контур генеративного ИИ для всей компании цифровизация

Для промышленности нормативы 130 нм на 200-миллиметровых кремниевых пластинах — это основной рабочий базис, говорит руководитель проектов холдинга SNDGLOBAL Лапотко Константин. Именно этот класс оборудования закрывает ключевые потребности автомобильной электроники, энергетики, промышленных контроллеров, связи и специальных систем».

Реальная емкость отечественного спроса привязана к действующим и проектируемым заводам, работающим с 200-миллиметровыми пластинами (включая площадки «Микрона», «НМ-Теха», предприятий группы «Элемент» и профильных НИИ). Общий парк зарубежных установок аналогичного класса, закупленных ранее, составляет в стране порядка 25-40 единиц, отметил Лапотко.

По его словам, с учетом их износа и планов по расширению линий, совокупная потребность российской микроэлектроники можно оценить где-то в 15-25 установок на горизонте до 2030-2032 гг.

Из этого вытекает и характер будущего производства: речь идет о штучном, мелкосерийном выпуске высочайшей точности.

Чем известен «ЗНТЦ»

АО «Зеленоградский нанотехнологический центр» — российский разработчик и производитель микроэлектроники и оборудования для ее производства.

Всеобщее благоденствие, робокоммунизм или цифровой фашизм? К каким сценариям человечество ведет искусственный интеллект цифровизация

Как ранее сообщал CNews, ЗНТЦ уже создал и начал серийное производство фотолитографа с разрешением 350 нм, который был передан компании «Отраслевые решения» (входит в ГК «Элемент»). ЗНТЦ также разработал установку электронно-лучевой литографии с проектными нормами 150 нм.

На форуме «Микроэлектроника 2025» генеральный директор ЗНТЦ Анатолий Ковалев заявлял, что создан серьезный задел, который позволяет перейти к разработке полностью локализованных установок с нормами 90 нм.

• Приложения для слежки за чужим смартфоном, за которые вам ничего не будет

Схожие новости

#	Наименование новости	Тональность	Информативность	Дата публикации
1	Эксперимент Филадельфия (5 фотографий)	0	0	01-08-2019
2	Chelsea Play Bayern Munich In The Champions League Tonight.	0	0	25-02-2020
3	По информации Координационного центра	0	0	20-05-2021
4	Диетолог назвала полезные свойства киви	0	0	26-02-2020
5	IFK Mora-seger i Ungdomsvasan: "Kändes så kul att få vinna på hemmaplan"	0	0	23-02-2020
6	К 80-летию завершения Сталинградской битвы. Научный семинар «История советской эпохи»	0	0	12-02-2023
7	Amer Sports Oyj : Change in Amer Sports Corporation’s financial reporting schedule	0	0	01-01-1970
8	Potpuni zaokret za novi Samsungov savitljivi telefon	0	0	12-02-2020
9	16-1174 - NORTH CAROLINA MUTUAL LIFE INSURANCE COMPANY v. STAMFORD BROOK CAPITAL, LLC et al	0	0	27-09-2019
10	Минпромторг РФ предложил отложить обязательную маркировку части молочных продуктов	0	0	10-02-2020

Классификация: Наука. Схожих патентов: 0. Схожих новостей: 10. Тональность: 0. Информативность: 9.84. Источник: cnews.ru.