Текст опубликован в личном блоге и его автор не имеет отношения к администрации сайта

Китай приблизился к созданию собственных установок для производства передовых микросхем благодаря прогрессу в разработке источника экстремального ультрафиолетового излучения (EUV). Исследовательской группой руководит бывший сотрудник ASML Линь Нань, работавший в Нидерландах над технологиями источников света для полупроводникового оборудования.Источник изображения: ChatGPTРазработка рассматривается как важный шаг в стремлении Пекина снизить зависимость от западных технологий. EUV-излучение используется для нанесения чрезвычайно мелких структур на кремниевые пластины и является ключевой технологией производства наиболее современных чипов.

По данным нидерландского издания Newsbit, китайские исследователи ранее создали экспериментальный источник с эффективностью преобразования энергии в EUV на уровне 3,42 процента. Однако по мощности китайская разработка пока значительно уступает коммерческим системам ASML: оцениваемая мощность составляет около 100-150 ватт против примерно 600 ватт у современных установок.

Создание полноценной EUV-машины требует решения целого комплекса других технических задач. В частности, необходимы сверхточные зеркала, системы позиционирования и сложное программное обеспечение, способные работать с точностью в несколько нанометров.

Как итог, Китай уже располагает прототипом, способным генерировать EUV-свет, однако, согласно приведенным данным, он пока не может выпускать пригодные для массового производства микросхемы. Особенно сложной задачей остаются оптические компоненты, которые ASML разрабатывает совместно с немецкой Zeiss. Китайские специалисты рассчитывают получить первые работающие чипы с использованием собственной EUV-технологии к 2028 году, но эксперты считают более реалистичным всё-таки 2030 год.